У напівпровідниковій промисловості перевірка пластин є ключовою ланкою для забезпечення якості та продуктивності мікросхеми, а точність і стабільність інспекційного столу відіграють вирішальну роль у результатах виявлення. Гранітна основа з її унікальними характеристиками стає ідеальним вибором для столу для перевірки напівпровідникових пластин, що є результатом багатовимірного аналізу для вас.
По-перше, вимір гарантії точності
1. Надзвичайно висока площинність та прямолінійність: Гранітна основа обробляється за допомогою передової технології обробки, а площинність може досягати ±0,001 мм/м або навіть вище, а прямолінійність також чудова. У процесі контролю пластин високоточна площина забезпечує стабільну опору для пластини та гарантує точний контакт між зондом інспекційного обладнання та паяними з'єднаннями на поверхні пластини.
2. Дуже низький коефіцієнт теплового розширення: виробництво напівпровідників чутливе до змін температури, а коефіцієнт теплового розширення граніту надзвичайно низький, зазвичай близько 5×10⁻⁶/℃. Під час роботи платформи виявлення, навіть якщо температура навколишнього середовища коливається, розмір гранітної основи змінюється дуже мало. Наприклад, у високотемпературному цеху влітку температура платформи виявлення на основі звичайного металу може призвести до зміщення відносного положення пластини та обладнання для виявлення, що впливає на точність виявлення; Платформа виявлення на основі граніту може підтримувати стабільність, забезпечувати точність відносного положення пластини та обладнання для виявлення під час процесу виявлення та забезпечувати стабільне середовище для високоточної детекції.
По-друге, вимір стабільності
1. Стабільна структура та стійкість до вібрацій: після мільйонів років геологічних процесів внутрішня структура граніту є щільною та однорідною. У складному середовищі заводу з виробництва напівпровідників вібрація, що виникає внаслідок роботи периферійного обладнання та пересування персоналу, ефективно пом'якшується гранітною основою.
2. Точність тривалого використання: порівняно з іншими матеріалами, граніт має високу твердість, високу зносостійкість, а твердість за шкалою Мооса може досягати 6-7 балів. Поверхня гранітної основи не так легко зношується під час частого завантаження, розвантаження та перевірки пластин. Згідно з фактичними статистичними даними, використання випробувального столу з гранітної основи, після 5000 годин безперервної роботи, точність площинності та прямолінійності все ще може підтримуватися на рівні понад 98% від початкової точності, зменшуючи знос обладнання через регулярне калібрування та технічне обслуговування, знижуючи експлуатаційні витрати бізнесу, забезпечуючи довгострокову стабільність випробувальних робіт.
Третій, чистий та антиперешкодний вимір
1. Низький рівень пилоутворення: середовище виробництва напівпровідників має бути дуже чистим, а сам гранітний матеріал стабільним і не схильним до утворення частинок пилу. Під час роботи випробувальної платформи запобігається забрудненню пластини пилом, що утворюється основою, а також зменшується ризик короткого замикання та розриву ланцюга, спричинених частинками пилу. У зоні інспекції пластин безпилового цеху концентрація пилу навколо інспекційного столу з гранітною основою завжди контролюється на надзвичайно низькому рівні, що відповідає суворим вимогам чистоти напівпровідникової промисловості.
2. Відсутність магнітних перешкод: обладнання для виявлення чутливе до електромагнітного середовища, а граніт є немагнітним матеріалом, який не перешкоджатиме електронному сигналу обладнання для виявлення. При використанні електронно-променевої детекції та інших технологій випробувань, що вимагають надзвичайно високого електромагнітного середовища, гранітна основа забезпечує стабільну передачу електронного сигналу обладнання для виявлення та точність результатів випробувань. Наприклад, під час випробування пластини на високоточні електричні характеристики, немагнітна гранітна основа запобігає перешкодам сигналам струму та напруги виявлення, завдяки чому дані виявлення точно відображають електричні характеристики пластини.
Час публікації: 31 березня 2025 р.